影像科学与光化学2010，Vol.28Issue(4)：296-304,9.
掺硼p型非晶硅薄膜的制备及光学性能的表征
Preparation and Characterization of Boron-Doped p-type a-Si∶H Thin Film
摘要
关键词
RF-等离子体增强化学气相沉积方法/非晶硅薄膜/折射率/消光系数/吸收系数/光学带隙分类
数理科学引用本文复制引用
夏冬林 ,王慧芳,石正忠,张兴良,刘俊..掺硼p型非晶硅薄膜的制备及光学性能的表征[J].影像科学与光化学,2010,28(4):296-304,9.基金项目
材料复合新技术国家重点实验室(武汉理工大学)开放基金(2010-KF-9) （武汉理工大学）
武汉市科技攻关(20061002037). （20061002037）
