红外技术2010，Vol.32Issue(4)：226-230,5.
高纯碲和镉中痕量杂质元素的辉光放电质谱分析
The Analysis of High Purity Tellurium and Cadmium Using Glow Discharge Mass Spectrometry and Ablation Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry
荣百炼 1胡赞东 1丛树仁 1韩福忠 1姬荣斌1
作者信息
- 1. 昆明物理研究所,云南,昆明,650223
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摘要
关键词
辉光放电质谱(GD-MS)/激光烧蚀电感耦合等离子体质谱(LA-ICP-MS)/痕量杂质测定/高纯碲和镉分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
荣百炼,胡赞东,丛树仁,韩福忠,姬荣斌..高纯碲和镉中痕量杂质元素的辉光放电质谱分析[J].红外技术,2010,32(4):226-230,5.
