光学精密工程2010，Vol.18Issue(8)：1822-1832,11.DOI:10.3788/OPE.20101808.1822
常温微压印中抗蚀剂流动的研究及工艺优化
Flow behavior of resist in room-temperature micro-imprinting and its process optimization
摘要
关键词
常温微压印/填充饱和度/占空比/可视化实验/优化分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
魏正英,熊孝东,杜军,丁玉成..常温微压印中抗蚀剂流动的研究及工艺优化[J].光学精密工程,2010,18(8):1822-1832,11.基金项目
国家自然科学基金资助项目(No.50975227) （No.50975227）
全国博士学位论文作者专项资金资助项目(No.200740) （No.200740）
国家自然基金重大研究计划资助项目(No.90923040) （No.90923040）
长江学者和创新团队发展计划资助项目(No.IRT0646) （No.IRT0646）
