强激光与粒子束2010，Vol.22Issue(7)：1535-1538,4.DOI:10.3788/HP1PB20102207.1535
磁控溅射方法制备直径120 mm高均匀性Mo/Si多层膜
Fabrication of high uniformity Mo/Si multilayer with 120 mm diameter using magnetron sputtering
摘要
关键词
Mo/Si多层膜/磁控溅射/均匀性/反射率/同步辐射分类
数理科学引用本文复制引用
潘磊,陆伟,王晓强,张众,朱京涛,王占山,李乙洲,李宏杰,王道荣,赵巨岩..磁控溅射方法制备直径120 mm高均匀性Mo/Si多层膜[J].强激光与粒子束,2010,22(7):1535-1538,4.基金项目
国家自然科学基金项目(10825521,10876023,10905042) （10825521,10876023,10905042）
国家高技术发展计划项目 （）
上海市自然科学基金项目(09ZR1434300) （09ZR1434300）
上海市科委纳米计划项目(0952nm06900) （0952nm06900）
上海市教育发展基金会晨光计划项目(2008CG25) （2008CG25）
同济大学青年优秀人才培养计划项目 （）
