人工晶体学报2010，Vol.39Issue(5)：1119-1123,5.
生长和退火温度对磁控溅射法制备的ZnO薄膜性能的影响
Influence of Growth and Annealing Temperatures on Properties of ZnO Thin Films Prepared by RF Magnetron Sputtering
摘要
关键词
ZnO薄膜/磁控溅射/结晶质量/退火处理分类
数理科学引用本文复制引用
王彬,赵子文,邱宇,马金雪,张贺秋,胡礼中..生长和退火温度对磁控溅射法制备的ZnO薄膜性能的影响[J].人工晶体学报,2010,39(5):1119-1123,5.基金项目
辽宁省教育厅重点实验室基金(No.20060131) （No.20060131）
高等学校博士学科点专项科研基金(No.20070141038) （No.20070141038）
