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直流磁控溅射法制备非晶态氧化钒薄膜光学特性研究

杜明军 吴志明 罗振飞 许向东 王涛 蒋亚东

电子器件2010,Vol.33Issue(5):531-535,5.
电子器件2010,Vol.33Issue(5):531-535,5.DOI:10.3969/j.issn.1005-9490.2010.05.002

直流磁控溅射法制备非晶态氧化钒薄膜光学特性研究

Study on Optical Properties of Amorphous Vanadium Oxide Thin Films by DC Magnetron Sputtering

杜明军 1吴志明 1罗振飞 1许向东 1王涛 1蒋亚东1

作者信息

  • 1. 电子科技大学光电信息学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054
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摘要

关键词

V2O5薄膜/衬底温度/磁控溅射/光学性能

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

杜明军,吴志明,罗振飞,许向东,王涛,蒋亚东..直流磁控溅射法制备非晶态氧化钒薄膜光学特性研究[J].电子器件,2010,33(5):531-535,5.

基金项目

国家自然科学基金项目资助(60736005) (60736005)

电子器件

OACSTPCD

1005-9490

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