表面技术2009，Vol.38Issue(6)：57-59,3.
掺杂钨丝电沉积铬的工艺研究
Process Study on Chromium Electrodeposition on Adulterate Tungsten Filament
摘要
关键词
电沉积/铬/掺杂钨丝/工艺参数/耐蚀性/CASS试验Key words
Electrodeposition/Chromium/Adulterate tungsten filament/Process parameter/Corrosion resistance/CASS test分类
化学化工引用本文复制引用
严敏杰..掺杂钨丝电沉积铬的工艺研究[J].表面技术,2009,38(6):57-59,3.基金项目
上海市科委攻关项目资助(08520513400) （08520513400）
上海市重点学科建设项目资助(J51402) （J51402）
