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沉积时间和钴盐含量对化学镀Ni-Co-P合金电磁屏蔽效能的影响

崔海萍 闫军 王彬 杜仕国

表面技术2009,Vol.38Issue(6):60-61,64,3.
表面技术2009,Vol.38Issue(6):60-61,64,3.

沉积时间和钴盐含量对化学镀Ni-Co-P合金电磁屏蔽效能的影响

Effect of the Sediment Time and the Content of Co~(2+) on the EMI Shielding Efficiency of Ni-Co-P Plating

崔海萍 1闫军 2王彬 2杜仕国2

作者信息

  • 1. 军械工程学院理化教研室,河北,石家庄,050003
  • 2. 军械工程学院三系试验中心,河北,石家庄,050003
  • 折叠

摘要

关键词

化学镀/Ni-Co-P合金/PVC/电磁屏蔽效能

Key words

Electroless plating/Ni-Co-P alloy/PVC/EMI shielding efficiency

分类

化学化工

引用本文复制引用

崔海萍,闫军,王彬,杜仕国..沉积时间和钴盐含量对化学镀Ni-Co-P合金电磁屏蔽效能的影响[J].表面技术,2009,38(6):60-61,64,3.

基金项目

国家自然科学基金项目(50842054) (50842054)

军械工程学院基金项目(YJJXM08008,YJJXM08023) (YJJXM08008,YJJXM08023)

表面技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-3660

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