材料工程Issue(8):20-23,4.
交流电化学沉积铜纳米线阵列及其机理探讨
AC Electrochemical Deposition of Cu Nanowire Arrays and Its Mechanism
摘要
关键词
交流电化学沉积/阳极氧化铝模板/铜纳米线阵列分类
化学化工引用本文复制引用
王学华,陈归,李承勇,杨亮,曹宏,周伟民..交流电化学沉积铜纳米线阵列及其机理探讨[J].材料工程,2010,(8):20-23,4.基金项目
武汉市青年科技晨光计划资助项目(20065004116-35) (20065004116-35)