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基片温度对TiO2薄膜的微观结构和紫外光电特性的影响

刘子丽 肖峻 蒋向东 孙继伟

电子器件2010,Vol.33Issue(2):135-138,4.
电子器件2010,Vol.33Issue(2):135-138,4.

基片温度对TiO2薄膜的微观结构和紫外光电特性的影响

Effect of Substrate Temperature on the Microstructure of TiO2 Thin Films and UV Photoelectric Properties

刘子丽 1肖峻 1蒋向东 2孙继伟2

作者信息

  • 1. 西南民族大学电气信息工程学院,成都,610041
  • 2. 电子科技大学光电信息学院,成都,610054
  • 折叠

摘要

关键词

TiO2薄膜/基片温度/直流磁控溅射/紫外光电特性

分类

数理科学

引用本文复制引用

刘子丽,肖峻,蒋向东,孙继伟..基片温度对TiO2薄膜的微观结构和紫外光电特性的影响[J].电子器件,2010,33(2):135-138,4.

电子器件

OACSTPCD

1005-9490

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