液晶与显示2009，Vol.24Issue(6)：836-839,4.
氩气压强对溅射法制备Ga掺杂ZnO薄膜性能的影响
Dependence of Argon Gas Pressure on Properties of Ga Doped ZnO Films Deposited by RF Sputtering
摘要
关键词
GZO/磁控溅射/氩气压强Key words
GZO/magnetron sputtering/argon gas pressure分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
马仙梅,荆海,王永刚,王龙彦,王中健,马凯..氩气压强对溅射法制备Ga掺杂ZnO薄膜性能的影响[J].液晶与显示,2009,24(6):836-839,4.基金项目
国家自然科学基金(No.60576054,No.60576043,No.60576056) （No.60576054,No.60576043,No.60576056）
教育部新世纪优秀人才支持计划(No.05-0326) （No.05-0326）
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