硅酸盐学报2010，Vol.38Issue(1)：64-67,4.
常压化学气相沉积法制备二氧化钛薄膜的沉积工艺及薄膜均匀性
DEPOSITION PROCESS AND UNIFORMITY OF TITANIUM DIOXIDE FILM PREPARED BY ATMOSPHERE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
庞世红 1王承遇 2马眷荣 1马振珠1
作者信息
- 1. 中国建筑材料科学研究总院,北京,100024
- 2. 大连工业大学,辽宁,大连,116034
- 折叠
摘要
关键词
常压化学气相沉积/二氧化钛/沉积速率/薄膜均匀性Key words
atmosphere chemical vapor deposition/titanium dioxide/deposition rate/uniformity of film分类
通用工业技术引用本文复制引用
庞世红,王承遇,马眷荣,马振珠..常压化学气相沉积法制备二氧化钛薄膜的沉积工艺及薄膜均匀性[J].硅酸盐学报,2010,38(1):64-67,4.
