物理学报2010，Vol.59Issue(6)：4296-4302,7.
脉冲偏压电弧离子镀C-N-V薄膜的成分、结构与性能
Composition,microstructure and properties of C-N-V films prepared by pulsed bias arc ion plating
摘要
关键词
C-N-V薄膜/类金刚石薄膜/纳米复合薄膜/电弧离子镀引用本文复制引用
李红凯,林国强,董闯..脉冲偏压电弧离子镀C-N-V薄膜的成分、结构与性能[J].物理学报,2010,59(6):4296-4302,7.基金项目
国家高技术研究发展计划(批准号:2006AA03Z521)资助的课题. （批准号:2006AA03Z521）
