化工进展2010，Vol.29Issue(10)：1923-1926,4.
磁控溅射制备非晶态WO3薄膜的光催化性能
Photocatalytic properties of amorphous WO3 thin films grown by magnetron sputtering
摘要
关键词
WO3薄膜/光催化/非晶态/磁控溅射分类
通用工业技术引用本文复制引用
黄佳木,李璐,刘园园,赵培,董思勤..磁控溅射制备非晶态WO3薄膜的光催化性能[J].化工进展,2010,29(10):1923-1926,4.基金项目
重庆市科委重点基金(CSTC2005BA4015)及重庆大学国家大学生创新基金(081061128)资助项目. （CSTC2005BA4015）
