影像科学与光化学2010，Vol.28Issue(1)：52-58,7.
一种新型紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及光刻性能研究
A Novel UV Photoresist Matrix Resin and Its Photolithographic Processes
摘要
关键词
紫外正型光刻胶/光刻Key words
UV positive photoresist/photolithography分类
化学化工引用本文复制引用
谢文,刘建国,李平..一种新型紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及光刻性能研究[J].影像科学与光化学,2010,28(1):52-58,7.基金项目
广东省科技攻关资助项目(2006B11801004). （2006B11801004）
