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真空紫外硅闪耀光栅的制作

盛斌 徐向东 刘颖 洪义麟 付绍军

光学精密工程2010,Vol.18Issue(1):94-99,6.
光学精密工程2010,Vol.18Issue(1):94-99,6.

真空紫外硅闪耀光栅的制作

Vacuum-ultraviolet blazed silicon grating anisotropically etched in KOH solution

盛斌 1徐向东 1刘颖 1洪义麟 1付绍军1

作者信息

  • 1. 中国科学技术大学,国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230029
  • 折叠

摘要

关键词

闪耀光栅/单晶硅/各向异性湿法刻蚀/真空紫外/掩模

Key words

blazed grating/Monocrystalline silicon/anisotropic wet etching/vacuum ultraviolet/mask

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

盛斌,徐向东,刘颖,洪义麟,付绍军..真空紫外硅闪耀光栅的制作[J].光学精密工程,2010,18(1):94-99,6.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(No.10875128) (No.10875128)

中国博士后科学基金资助项目(No.20090460727) (No.20090460727)

光学精密工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1004-924X

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