光学精密工程2010,Vol.18Issue(1):94-99,6.
真空紫外硅闪耀光栅的制作
Vacuum-ultraviolet blazed silicon grating anisotropically etched in KOH solution
摘要
关键词
闪耀光栅/单晶硅/各向异性湿法刻蚀/真空紫外/掩模Key words
blazed grating/Monocrystalline silicon/anisotropic wet etching/vacuum ultraviolet/mask分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
盛斌,徐向东,刘颖,洪义麟,付绍军..真空紫外硅闪耀光栅的制作[J].光学精密工程,2010,18(1):94-99,6.基金项目
国家自然科学基金资助项目(No.10875128) (No.10875128)
中国博士后科学基金资助项目(No.20090460727) (No.20090460727)