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退火温度及退火气氛对ZnO薄膜的结构及发光性能的影响

张侠 刘渝珍 康朝阳 徐彭寿 王家鸥 奎热西

发光学报2010,Vol.31Issue(5):613-618,6.
发光学报2010,Vol.31Issue(5):613-618,6.

退火温度及退火气氛对ZnO薄膜的结构及发光性能的影响

Effects of Annealing Atmosphere and Temperature on the Structure and Photoluminescence of ZnO Films Prepared by Pulsed Laser Deposition

张侠 1刘渝珍 1康朝阳 2徐彭寿 2王家鸥 3奎热西3

作者信息

  • 1. 中国科学院,研究生院,北京,100039
  • 2. 中国科学技术大学,安徽,合肥,230026
  • 3. 中国科学院,高能物理研究所,北京,100049
  • 折叠

摘要

关键词

ZnO薄膜/快速退火/光致发光/X射线光电子能谱/氧空位

Key words

thin ZnO films/rapid thermal annealing/photoluminescence/XPS/oxygen vacancies

分类

数理科学

引用本文复制引用

张侠,刘渝珍,康朝阳,徐彭寿,王家鸥,奎热西..退火温度及退火气氛对ZnO薄膜的结构及发光性能的影响[J].发光学报,2010,31(5):613-618,6.

基金项目

Projects supported by National Natural Science Foundation (50532070) 国家自然科学基金(50532070)资助项目 (50532070)

发光学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-7032

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