华中科技大学学报（自然科学版）2009，Vol.37Issue(7)：35-37,41,4.
氮化铝薄膜的原子层淀积制备及应用
Preparing aluminum nitride thin film by atomic layer deposition
摘要
关键词
氮化铝/原子层淀积/保型性/粗糙度/环形光子晶体器件Key words
aluminum nitride/atomic layer deposition/conformal/roughness/annular photonic crystals分类
通用工业技术引用本文复制引用
陈曜,冯俊波,周治平,于军..氮化铝薄膜的原子层淀积制备及应用[J].华中科技大学学报（自然科学版）,2009,37(7):35-37,41,4.基金项目
国家重点基础研究发展计划预研项目(2006CB708310) （2006CB708310）
国家自然科学基金资助项目(60578048). （60578048）
