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应用于红外成像系统实验室的避漏电保护LISN设计

郑新波 潘鸣 裴云天

红外技术2010，Vol.32Issue(11)：649-653,658,6.
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红外技术2010，Vol.32Issue(11)：649-653,658,6.

应用于红外成像系统实验室的避漏电保护LISN设计

Two New Designs of LISN Leakage Protection Applied in IR Imaging System Laboratory

郑新波 1潘鸣 1裴云天1

作者信息

  • 1. 中国科学院上海技术物理研究所,上海,200083
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摘要

关键词

红外成像系统/LISN/传导发射/电磁兼容/漏电保护

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

郑新波,潘鸣,裴云天..应用于红外成像系统实验室的避漏电保护LISN设计[J].红外技术,2010,32(11):649-653,658,6.

基金项目

国家预研项目. （）

红外技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-8891

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