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靶衬间距对脉冲激光沉积薄膜均匀性的影响

王成伟 马军满 陈建彪

西北师范大学学报(自然科学版)2010,Vol.46Issue(3):39-43,5.
西北师范大学学报(自然科学版)2010,Vol.46Issue(3):39-43,5.

靶衬间距对脉冲激光沉积薄膜均匀性的影响

The effect of target-to-substrate distance on the uniformity of thin films prepared by pulse laser deposition

王成伟 1马军满 2陈建彪1

作者信息

  • 1. 西北师范大学物理与电子工程学院,甘肃兰州,730070
  • 2. 西北师范大学极端环境原子分子物理实验室,甘肃兰州,730070
  • 折叠

摘要

关键词

脉冲激光沉积(PLD)/靶衬间距/均匀性

分类

数理科学

引用本文复制引用

王成伟,马军满,陈建彪..靶衬间距对脉冲激光沉积薄膜均匀性的影响 [J].西北师范大学学报(自然科学版),2010,46(3):39-43,5.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(10974155,10774121) (10974155,10774121)

甘肃省自然科学基金资助项目(0803RJZA102) (0803RJZA102)

甘肃省高等学校研究生导师科研项目(0801-09) (0801-09)

西北师范大学科技创新工程项目(NWNU-KJCXGC-03-22) (NWNU-KJCXGC-03-22)

西北师范大学学报(自然科学版)

OA北大核心CSTPCD

1001-988X

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