武汉工程大学学报2010，Vol.32Issue(12)：69-72,4.DOI:10.3969/j.issn.1674-2869.2010.12.017
掺硼多晶金刚石膜电极的电化学研究
Fabrication and electrochemical properties of boron-doped diamond thin-film
摘要
关键词
化学气相沉积/掺硼金刚石膜/电化学/循环伏安法分类
数理科学引用本文复制引用
陈朋,满卫东,吕继磊,朱金凤,董维,汪建华..掺硼多晶金刚石膜电极的电化学研究[J].武汉工程大学学报,2010,32(12):69-72,4.基金项目
湖北省自然科学基金(2008CDB255) （2008CDB255）
湖北省教育厅Q20081505项目的支持 （）
