航天器环境工程2010，Vol.27Issue(6)：751-755,5.DOI:10.3969/j.issn.1673-1379.2010.06.019
硅氧烷原子氧防护膜工艺及防护性能研究
The preparation of organic silicon atomic-oxygen-protection film and its properties
郑阔海 1杨生胜 1李中华 1王敬宜 1赵琳1
作者信息
- 1. 兰州物理研究所,真空低温技术与物理国家级重点实验室,兰州,730000
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摘要
关键词
原子氧/六甲基二硅氧烷(HMDSO)/防护膜/等离子体/聚合膜分类
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郑阔海,杨生胜,李中华,王敬宜,赵琳..硅氧烷原子氧防护膜工艺及防护性能研究[J].航天器环境工程,2010,27(6):751-755,5.
