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磁控溅射与电弧离子镀制备TiN薄膜的比较

李鹏 黄美东 佟莉娜 张琳琳 王丽格 李晓娜

天津师范大学学报(自然科学版)2011,Vol.31Issue(2):32-37,6.
天津师范大学学报(自然科学版)2011,Vol.31Issue(2):32-37,6.

磁控溅射与电弧离子镀制备TiN薄膜的比较

Comparison of TiN films prepared by magnetron sputtering and arc ion plating

李鹏 1黄美东 1佟莉娜 1张琳琳 1王丽格 1李晓娜2

作者信息

  • 1. 天津师范大学,物理与电子信息学院,天津,300387
  • 2. 大连理工大学,三束重点实验室,辽宁,大连,116024
  • 折叠

摘要

关键词

TiN/磁控溅射/电弧离子镀

分类

数理科学

引用本文复制引用

李鹏,黄美东,佟莉娜,张琳琳,王丽格,李晓娜..磁控溅射与电弧离子镀制备TiN薄膜的比较[J].天津师范大学学报(自然科学版),2011,31(2):32-37,6.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(61078059) (61078059)

天津师范大学学术创新推进计划资助项目(52X09038) (52X09038)

天津师范大学学报(自然科学版)

1671-1114

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