天津师范大学学报（自然科学版）2011，Vol.31Issue(2)：38-41,4.
负偏压对反应磁控溅射AlN薄膜的影响
Influence of negative bias on properties of aluminum nitride thin films prepared by reactive magnetron sputtering
摘要
关键词
AlN薄膜/基底负偏压/反应磁控溅射法分类
数理科学引用本文复制引用
张琳琳,黄美东,李鹏,王丽格,佟莉娜..负偏压对反应磁控溅射AlN薄膜的影响[J].天津师范大学学报（自然科学版）,2011,31(2):38-41,4.基金项目
国家自然辩学基金资助项目(61078059) （61078059）
天津师范大学推进计划资助项目(52X09038) （52X09038）
