中国光学2011，Vol.4Issue(2)：188-195,8.
TiO2/Al2O3薄膜的原子层沉积和光学性能分析
Optical characteristics of TiO2/Al2 O3 thin films and their atomic layer depositions
卫耀伟 1刘志超 1陈松林1
作者信息
- 1. 成都精密光学工程研究中心,四川,成都,610041
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摘要
关键词
薄膜光学/原子层沉积/激光损伤/增透膜分类
数理科学引用本文复制引用
卫耀伟,刘志超,陈松林..TiO2/Al2O3薄膜的原子层沉积和光学性能分析[J].中国光学,2011,4(2):188-195,8.
