溅射方式对NbN薄膜结构及热稳定性的影响OA北大核心CSCDCSTPCD
Influence of Sputtering method on Microstructure and Thermal Stability of NbN Diffusion Barrier
用射频磁控溅射和直流磁控溅射的方法分别在Si(100)衬底和Cu膜间制备了30nm 的NbN薄膜,Cu/NbN/Si样品在高纯氮气保护下退火至700℃.用四探针电阻测试仪(FPP)、AFM、SEM、XRD、AES研究了溅射方式对NbN薄膜扩散阻挡性能的影响响退火前XRD结果表明,直流溅射制备的NbN薄膜为典型的晶态结构,射频溅射制备的薄膜为典型的非儡态结构.高温退火后的XRD、SEM、FPP、AES研究结果表明非晶态结构的NbN薄膜有更好的扩散阻…查看全部>>
张宏森;丁明惠;张丽丽;蒋保江
黑龙江科技学院现代分析测试研究中心,黑龙江,哈尔滨,150027哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001黑龙江大学化学化工与材料学院,黑龙江,哈尔滨,150086
信息技术与安全科学
NbN薄膜扩散阻挡层Cu互连磁控溅射
《材料科学与工程学报》 2010 (3)
聚癸二酸甘油醇酯弹性体作为药物植入缓释载体材料的基础研究
458-462,5
国家自然科学基金资助项目(50773014),黑龙江省教育厅资助项目(11541282)
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