影像科学与光化学2009，Vol.27Issue(5)：379-390,12.
用于浸没式工艺的光刻胶研究进展
Progress in Photoresist for Immersion Lithography
摘要
关键词
浸没式光刻/光刻胶/主体树脂/光致产酸剂分类
化学化工引用本文复制引用
何鉴,盛瑞隆,穆启道..用于浸没式工艺的光刻胶研究进展[J].影像科学与光化学,2009,27(5):379-390,12.基金项目
北京市科技计划项目(课题编号:Z08080302110801). （课题编号:Z08080302110801）
