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碲镉汞富碲垂直液相外延技术

杨建荣 陈新强 张传杰 方维政 魏彦锋 刘从峰 孙士文 陈晓静 徐庆庆 顾仁杰

红外与毫米波学报2009,Vol.28Issue(5):325-329,5.
红外与毫米波学报2009,Vol.28Issue(5):325-329,5.

碲镉汞富碲垂直液相外延技术

Te-RICH DIPPING TECHNIQUE OF HgCdTe LIQUID PHASE EPITAXY

杨建荣 1陈新强 1张传杰 1方维政 1魏彦锋 1刘从峰 1孙士文 1陈晓静 1徐庆庆 1顾仁杰1

作者信息

  • 1. 中科院上海技术物理研究所,中国科学院红外成像材料与器件重点实验室,上海,200083
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摘要

关键词

半导体技术/碲镉汞外延材料/液相外延/垂直浸渍外延

分类

数理科学

引用本文复制引用

杨建荣,陈新强,张传杰,方维政,魏彦锋,刘从峰,孙士文,陈晓静,徐庆庆,顾仁杰..碲镉汞富碲垂直液相外延技术[J].红外与毫米波学报,2009,28(5):325-329,5.

基金项目

国家自然科学基金创新群体资助项目(60221502) (60221502)

红外与毫米波学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-9014

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