人工晶体学报2010，Vol.39Issue(1)：77-81,5.
双靶反应磁控溅射共沉积AlN薄膜粘结性能研究
Study on the Adhesion of AlN Thin Films Co-deposited by Dual Targets Reactive Magnetron Sputtering
朱家俊 1周灵平 1刘新胜 1彭坤 1李德意 1李绍禄1
作者信息
- 1. 湖南大学材料科学与工程学院,长沙,410082
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摘要
关键词
AlN薄膜/反应磁控溅射/粘结强度/共沉积Key words
AlN thin films/magnetron reactive sputtering/adhesion/co-deposited分类
通用工业技术引用本文复制引用
朱家俊,周灵平,刘新胜,彭坤,李德意,李绍禄..双靶反应磁控溅射共沉积AlN薄膜粘结性能研究[J].人工晶体学报,2010,39(1):77-81,5.
