人工晶体学报2010，Vol.39Issue(1)：190-196,7.
纯氮气反应溅射AlN薄膜及性质研究
Preparation and Properties of AlN Thin Films by Pure Nitrogen Reactive Sputtering
摘要
关键词
氮化铝/磁控反应溅射/择优取向Key words
AlN/magnetron reactive sputtering/preferred orientation分类
数理科学引用本文复制引用
杨世才,阿布都艾则孜·阿布来提,简基康,郑毓峰,孙言飞,吴荣..纯氮气反应溅射AlN薄膜及性质研究[J].人工晶体学报,2010,39(1):190-196,7.基金项目
国家自然科学基金(No.10864004 （）
No.50862008) （）
新疆大学博士启动基金(No.BS060110 （）
No.BS080109) （）
