人工晶体学报2010，Vol.39Issue(1)：232-236,5.
磁控溅射法制备AlN: Er薄膜的XPS和PL研究
Study on XPS and PL of Er Doped AlN Film Prepared by Magnetron Sputtering Method
摘要
关键词
磁控溅射/掺铒氮化铝/X射线光电子能谱/光致发光光谱Key words
magnetron sputtering/AlN: Er/XPS/PL分类
数理科学引用本文复制引用
许鸿彬,刘文,张勇,吕文中..磁控溅射法制备AlN: Er薄膜的XPS和PL研究[J].人工晶体学报,2010,39(1):232-236,5.基金项目
教育部(广东省)光电子器件与系统重点实验室开放基金(No.2007008) （广东省）
