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Ti离子注入和退火对ZnS薄膜结构和光学性质的影响

苏海桥 薛书文 陈猛 李志杰 袁兆林 付玉军 祖小涛

物理学报2009，Vol.58Issue(10)：7108-7113,6.
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物理学报2009，Vol.58Issue(10)：7108-7113,6.

Ti离子注入和退火对ZnS薄膜结构和光学性质的影响

Effects of Ti ion implantation and post-thermal annealing on the structural and optical properties of ZnS films

苏海桥 1薛书文 2陈猛 1李志杰 1袁兆林 1付玉军 3祖小涛1

作者信息

  • 1. 电子科技大学应用物理系,成都,610054
  • 2. 湛江师范学院物理系,湛江,524048
  • 3. 兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000
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摘要

关键词

ZnS薄膜/离子注入/X射线衍射/光致发光

分类

数理科学

引用本文复制引用

苏海桥,薛书文,陈猛,李志杰,袁兆林,付玉军,祖小涛..Ti离子注入和退火对ZnS薄膜结构和光学性质的影响[J].物理学报,2009,58(10):7108-7113,6.

基金项目

教育部新世纪优秀人才支持计划(批准号:NCET-04-0899)资助的课题. （批准号:NCET-04-0899）

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-3290

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