物理学报2010，Vol.59Issue(4)：2653-2660,8.
大气压等离子体辅助多晶硅薄膜化学气相沉积参数诊断
Diagnostics of the atmospheric pressure plasma jets for plasma enhanced chemical vapor deposition of polycrystalline silicon thin film
摘要
关键词
大气压等离子体射流/发射光谱/电子激发温度/多晶硅薄膜沉积Key words
atmospheric pressure plasma jet/plasma emission spectra/electron excitation temperature/polycrystalline silicon thin film引用本文复制引用
刘莉莹,张家良,郭卿超,王德真..大气压等离子体辅助多晶硅薄膜化学气相沉积参数诊断[J].物理学报,2010,59(4):2653-2660,8.基金项目
国家自然科学基金(批准号:10775026,10675028)资助的课题. （批准号:10775026,10675028）
