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磁控溅射制备纳米Ni-Al薄膜的表面粗糙度和电阻率的研究

王晶 余花娃

西安工程大学学报2009,Vol.23Issue(4):150-153,4.
西安工程大学学报2009,Vol.23Issue(4):150-153,4.

磁控溅射制备纳米Ni-Al薄膜的表面粗糙度和电阻率的研究

Study on surface roughness and resistivity of nano Ni-Al by magnetron sputtering

王晶 1余花娃1

作者信息

  • 1. 西安工程大学,理学院,陕西,西安,710048
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摘要

关键词

Ni-Al薄膜/磁控溅射/粗糙度/电阻率

分类

数理科学

引用本文复制引用

王晶,余花娃..磁控溅射制备纳米Ni-Al薄膜的表面粗糙度和电阻率的研究[J].西安工程大学学报,2009,23(4):150-153,4.

西安工程大学学报

OACSTPCD

1674-649X

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