真空电子技术Issue(3)：30-36,7.
高反膜镀制工艺研究的新进展
New Progress of Fabrication Technologies for High Reflectance Coating in Laser's Resonant Cavity
邓婷 1黄光周 1刘雄英 1朱建明 2戴晋福2
作者信息
- 1. 华南理工大学电子与信息学院,广东,广州,510640
- 2. 广东肇庆市科润真空设备有限公司,广东,肇庆,526060
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摘要
关键词
高反膜/反射率/制备工艺/损伤阈值分类
数理科学引用本文复制引用
邓婷,黄光周,刘雄英,朱建明,戴晋福..高反膜镀制工艺研究的新进展[J].真空电子技术,2009,(3):30-36,7.
