北京信息科技大学学报（自然科学版）2012，Vol.27Issue(1)：31-34,4.
高保真度压印光刻图形质量研究
Quality research of high-conformity patterning for imprint lithography
严乐 1卢秉恒2
作者信息
- 1. 北京信息科技大学机电工程学院,北京100192
- 2. 西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室,西安710049
- 折叠
摘要
关键词
压印光刻/高保真度/模具/压印工艺/热误差分类
机械制造引用本文复制引用
严乐,卢秉恒..高保真度压印光刻图形质量研究[J].北京信息科技大学学报（自然科学版）,2012,27(1):31-34,4.
