基片温度对纳米金刚石薄膜制备的影响OA
Influence of substrate temperature on preparation of nano-crystalline diamond films
采用多模谐振腔微波等离子体CVD在不同基片温度下制备了纳米金刚石薄膜,通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和拉曼光谱测试,研究了基片温度对纳米金刚石薄膜性能的影响.结果表明:在其他工艺条件不变时,基片温度对薄膜性能具有较大的影响,较低的基片温度更有利于制备高质量的纳米金刚石薄膜,实验所获得的优化基片温度为720℃左右.
Using multimode resonant cavity microwave plasma CVD apparatus to prepare nano-crystalline diamond thin film at different substrate temperatures, we use scanning electron microscope ( SEM), atomic force microscope ( AFM) and Raman spectroscopy to study the influence of substrate temperature on the properties of nano-crystalline diamond films. The results show that: with the other conditions unchanged, the substrate temperature has a great influence on the pr…查看全部>>
江川;汪建华;熊礼威;翁俊;苏含;刘鹏飞
武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料实验室,湖北武汉430074武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料实验室,湖北武汉430074中国科学院等离子体物理研究所,安徽合肥230031武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料实验室,湖北武汉430074武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料实验室,湖北武汉430074中国科学院等离子体物理研究所,安徽合肥230031
数理科学
微波等离子体化学气相沉积纳米金刚石薄膜沉积温度
microwave plasma chemical vapor deposition nano-crystalline diamond thin film deposition temperature
《武汉工程大学学报》 2012 (4)
光学级金刚石厚膜沉积过程晶面取向与缺陷控制机理研究
39-42,46,5
国家自然科学基金项目(11175137)
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