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沉积压力对磁控溅射Mg薄膜结构的影响

毛飞雄 刘涛 于景坤

材料与冶金学报2012,Vol.11Issue(2):102-104,110,4.
材料与冶金学报2012,Vol.11Issue(2):102-104,110,4.

沉积压力对磁控溅射Mg薄膜结构的影响

Effects of deposition pressure on Mg thin film during magnetron sputtering

毛飞雄 1刘涛 1于景坤1

作者信息

  • 1. 东北大学材料与冶金学院,沈阳110819
  • 折叠

摘要

关键词

磁控溅射/Mg薄膜/沉积压力

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

毛飞雄,刘涛,于景坤..沉积压力对磁控溅射Mg薄膜结构的影响[J].材料与冶金学报,2012,11(2):102-104,110,4.

基金项目

国家自然科学基金资助(No.50904016). (No.50904016)

材料与冶金学报

OA北大核心CSTPCD

1671-6620

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