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采用RIE沉积法研制微纳工艺中的防粘连层

顾盼 刘景全 陈迪 孙洪文

传感技术学报2006，Vol.19Issue(5A)：P.1395-1397,1400,4.
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传感技术学报2006，Vol.19Issue(5A)：P.1395-1397,1400,4.

采用RIE沉积法研制微纳工艺中的防粘连层

顾盼 1刘景全 1陈迪 1孙洪文1

作者信息

  • 1. 上海交通大学微纳科学技术研究院
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摘要

关键词

反应离子刻蚀/表面能/微机电系统/防粘连膜

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

顾盼,刘景全,陈迪,孙洪文..采用RIE沉积法研制微纳工艺中的防粘连层[J].传感技术学报,2006,19(5A):P.1395-1397,1400,4.

基金项目

上海市科委纳米专项资助(0352nm010) （0352nm010）

传感技术学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1004-1699

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