| 注册
首页|期刊导航|人工晶体学报|化学气相沉积工艺制备碳化硅晶须的研究

化学气相沉积工艺制备碳化硅晶须的研究

孟凡涛 杜善义 张宇民

人工晶体学报2010,Vol.39Issue(B06):P.131-134,5.
人工晶体学报2010,Vol.39Issue(B06):P.131-134,5.

化学气相沉积工艺制备碳化硅晶须的研究

孟凡涛 1杜善义 2张宇民2

作者信息

  • 1. 哈尔滨工业大学复合材料研究所,哈尔滨150001 山东理工大学材料科学与工程学院,淄博255049
  • 2. 哈尔滨工业大学复合材料研究所,哈尔滨150001
  • 折叠

摘要

关键词

碳化硅晶须/化学气相沉积/VS机理/反应烧结碳化硅

分类

数理科学

引用本文复制引用

孟凡涛,杜善义,张宇民..化学气相沉积工艺制备碳化硅晶须的研究[J].人工晶体学报,2010,39(B06):P.131-134,5.

人工晶体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-985X

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文