四川大学学报(自然科学版)2013,Vol.50Issue(3):585-589,5.DOI:10.3969/j.issn.0490-6756.2013.03.031
射频磁控溅射制备CdS多晶薄膜及其性能研究
Preparation and characterization of CdS thin films by RF-magnetron sputtering
摘要
关键词
射频磁控溅射法/CdS多晶薄膜/溅射功率分类
能源科技引用本文复制引用
江海波,黎兵,肖心举,丁超,明振训,冯良桓,张静全..射频磁控溅射制备CdS多晶薄膜及其性能研究[J].四川大学学报(自然科学版),2013,50(3):585-589,5.基金项目
国家863课题(2011AA050519) (2011AA050519)