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基于0.18 μm工艺SOI技术60 V LDMOS的设计与分析

戚帆 檀柏梅 翁坤 宋雯

电子器件2013,Vol.36Issue(2):139-142,4.
电子器件2013,Vol.36Issue(2):139-142,4.DOI:10.3969/j.issn.1005-9490.2013.02.001

基于0.18 μm工艺SOI技术60 V LDMOS的设计与分析

0.18 μm 60 V SOI LDNMOS Technology Design and Analysis

戚帆 1檀柏梅 1翁坤 2宋雯1

作者信息

  • 1. 河北工业大学微电子技术与材料研究所,天津300130
  • 2. 福州大学福建省微电子集成电路重点研究室,福州350002
  • 折叠

摘要

关键词

绝缘体上硅/LDMOS/器件流片测试/器件结构/直流特性

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

戚帆,檀柏梅,翁坤,宋雯..基于0.18 μm工艺SOI技术60 V LDMOS的设计与分析[J].电子器件,2013,36(2):139-142,4.

基金项目

天津市科技支撑计划项目(10ZCKFGX1300) (10ZCKFGX1300)

电子器件

OA北大核心CSTPCD

1005-9490

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