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氩、氢混合等离子体处理对GaAs表面性质及发光特性的影响

王云华周路乔忠良高欣薄报学

发光学报2013，Vol.34Issue(3)：308-313,6.

发光学报2013，Vol.34Issue(3)：308-313,6.DOI:10.3788/fgxb20133403.0308

Effects of Ar and H2 Plasma Treatment on The Surface Character and Luminescence Properties of GaAs Substrates

王云华 ¹周路 ¹乔忠良 ¹高欣 ¹薄报学¹

作者信息

等离子清洗/GaAs基片/发光强度

数理科学

王云华,周路,乔忠良,高欣,薄报学..氩、氢混合等离子体处理对GaAs表面性质及发光特性的影响[J].发光学报,2013,34(3):308-313,6.

国家自然科学基金(61177019,61176048)资助项目（61177019,61176048）

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1000-7032

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