光学精密工程2013，Vol.21Issue(9)：2238-2243,6.DOI:10.3788/OPE.20132109.2238
离子束溅射制备SiO2薄膜的折射率与应力调整
Adjustments of refractive index and stress of SiO2 films prepared by IBS technology
摘要
关键词
SiO2薄膜/正交实验/折射率/应力/离子束溅射Key words
SiO2 thin film/orthogonal experiment/refractive index/stress/ion beam sputtering分类
数理科学引用本文复制引用
刘华松,王利栓,姜玉刚,季一勤..离子束溅射制备SiO2薄膜的折射率与应力调整[J].光学精密工程,2013,21(9):2238-2243,6.基金项目
国家自然科学基金重点资助项目(No.61235011) （No.61235011）
国家重大科学仪器专项子项目(No.2012YQ04016405) （No.2012YQ04016405）
天津市自然科学基金资助项目(No.12JCQNIC01200,No.13JCYBJC17300) （No.12JCQNIC01200,No.13JCYBJC17300）
