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氯硅烷的质谱碎裂规律研究:稳定的Si-Cl键

李飞 张华蓉 蒋剑雄 蒋可志

杭州师范大学学报(自然科学版)2013,Vol.12Issue(4):297-300,4.
杭州师范大学学报(自然科学版)2013,Vol.12Issue(4):297-300,4.DOI:10.3969/j.issn.1674-232X.2013.04.002

氯硅烷的质谱碎裂规律研究:稳定的Si-Cl键

On the Fragmentation Rule of Chlorosilane:Stable Si—Cl Bond

李飞 1张华蓉 1蒋剑雄 1蒋可志1

作者信息

  • 1. 杭州师范大学有机硅化学及材料技术教育部重点实验室,浙江杭州310012
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摘要

关键词

氯硅烷/氯代烷烃/电子轰击电离质谱/量化计算

分类

化学化工

引用本文复制引用

李飞,张华蓉,蒋剑雄,蒋可志..氯硅烷的质谱碎裂规律研究:稳定的Si-Cl键[J].杭州师范大学学报(自然科学版),2013,12(4):297-300,4.

基金项目

浙江省自然科学基金项目(Y410020) (Y410020)

杭州师范大学国家项目培育基金项目(2012PYJJ09). (2012PYJJ09)

杭州师范大学学报(自然科学版)

1674-232X

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