人工晶体学报2013，Vol.42Issue(9)：1857-1863,7.
工作压对射频磁控溅射ZAO薄膜微结构及光电性能影响的研究
Influence of Working Pressure on Micro-structrure and Photoelectric Properties of the ZAO Thin Films Prepared by RF Magnetron Sputtering
摘要
关键词
ZAO薄膜/透射率/电阻率Key words
ZAO thin film / transmittance/ resistivity分类
数理科学引用本文复制引用
朱华,万文琼,况慧芸,冯晓炜..工作压对射频磁控溅射ZAO薄膜微结构及光电性能影响的研究[J].人工晶体学报,2013,42(9):1857-1863,7.基金项目
江西省教育厅科技项目(GJJ13639) （GJJ13639）
