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高压下XeF2结构和电子性质的第一性原理研究

廖大麟 李佐 王朴 程新路

四川师范大学学报(自然科学版)2013,Vol.36Issue(6):907-910,4.
四川师范大学学报(自然科学版)2013,Vol.36Issue(6):907-910,4.DOI:10.3969/j.issn.1001-8395.2013.06.019

高压下XeF2结构和电子性质的第一性原理研究

First-Principles Study of Structural and Electronic Properties of XeF2 Crystal under High Pressure

廖大麟 1李佐 1王朴 1程新路2

作者信息

  • 1. 毕节学院理学院,贵州毕节551700
  • 2. 四川大学原子与分子物理研究所,四川成都610065
  • 折叠

摘要

关键词

二氟化氙/态密度/高压

Key words

Xenon fluoride (XeF2)/density of states/high-pressure

分类

数理科学

引用本文复制引用

廖大麟,李佐,王朴,程新路..高压下XeF2结构和电子性质的第一性原理研究[J].四川师范大学学报(自然科学版),2013,36(6):907-910,4.

基金项目

贵州省教育厅自然科学基金(20090067)资助项目 (20090067)

毕节学院自然科学类项目(20112025)对本文给予了资助,谨致谢意. (20112025)

四川师范大学学报(自然科学版)

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-8395

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