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表层氮化硅掺氧对单银高透Low-E性能的改善

贾绍辉 张淮凌 孙徐兴 刘涌 韩高荣

材料科学与工程学报2013,Vol.31Issue(6):799-802,818,5.
材料科学与工程学报2013,Vol.31Issue(6):799-802,818,5.

表层氮化硅掺氧对单银高透Low-E性能的改善

Performance Improvement of Single-layer-silver Low-E by Oxygen Doping in Surface Si3N4 Layer

贾绍辉 1张淮凌 1孙徐兴 1刘涌 2韩高荣2

作者信息

  • 1. 威海蓝星玻璃股份有限公司,山东威海264211
  • 2. 浙江大学材料科学与工程系硅材料国家重点实验室,浙江杭州310027
  • 折叠

摘要

关键词

Low-E/氮化硅/氧掺杂

Key words

Low-E/ Si3N4 / oxygen doping

分类

化学化工

引用本文复制引用

贾绍辉,张淮凌,孙徐兴,刘涌,韩高荣..表层氮化硅掺氧对单银高透Low-E性能的改善[J].材料科学与工程学报,2013,31(6):799-802,818,5.

基金项目

国家“十二五”科技支撑计划资助项目(2011BAE14B02) (2011BAE14B02)

材料科学与工程学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1673-2812

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