人工晶体学报2013，Vol.42Issue(12)：2520-2524,2531,6.
同质缓冲层对氧化铟锡薄膜特性的影响
Effect of Homo-buffer Layer on the Properties of Indium Tin Oxide Thin Films
摘要
关键词
ITO/同质缓冲层/电阻率/透过率Key words
ITO / homo-buffer layer/ resistivity/ transmittance分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
宋淑梅,宋玉厚,杨田林,贾绍辉,辛艳青,李延辉..同质缓冲层对氧化铟锡薄膜特性的影响[J].人工晶体学报,2013,42(12):2520-2524,2531,6.基金项目
山东大学自主创新基金(2011ZRYQ010,2011ZRXT002) （2011ZRYQ010,2011ZRXT002）
