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氢氦共同稀释对微晶硅锗薄膜结构特性的影响

李天微 张建军 曹宇 倪牮 黄振华 赵颖

人工晶体学报2013,Vol.42Issue(12):2525-2531,7.
人工晶体学报2013,Vol.42Issue(12):2525-2531,7.

氢氦共同稀释对微晶硅锗薄膜结构特性的影响

Influence of Helium and Hydrogen Mixture Dilution on the Structural Properties of Microcrystalline Silicon-germanium Films

李天微 1张建军 1曹宇 1倪牮 1黄振华 1赵颖1

作者信息

  • 1. 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,光电信息科学技术教育部重点实验室,光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津300071
  • 折叠

摘要

关键词

微晶硅锗薄膜/等离子体增强化学气相沉积/He稀释

Key words

microcrystalline silicon-germanium film/ PECVD/ helium dilution

分类

数理科学

引用本文复制引用

李天微,张建军,曹宇,倪牮,黄振华,赵颖..氢氦共同稀释对微晶硅锗薄膜结构特性的影响[J].人工晶体学报,2013,42(12):2525-2531,7.

基金项目

国家重点基础研究发展计划(973计划)(2011CBA00705,2011CBA00706,2011CBA00707) (973计划)

国家自然科学基金(61377031) (61377031)

天津市应用基础及前沿技术研究计划(12JCQNJC01000) (12JCQNJC01000)

中央高校基本科研业务费专项资金资助 ()

天津市重大科技支撑计划项目(11TXSYGX22100) (11TXSYGX22100)

人工晶体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-985X

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